Metalen Ondersteunende Doelen

• Aanpasbaar 4N koolstofsputterdoel

  Onze hoog{0}}zuivere 4N-koolstofsputterdoelen zijn gemaakt van 99,99% puur koolstofmateriaal, hebben een laag onzuiverheidsniveau, waardoor ze ideaal zijn voor toepassingen in halfgeleiders,...

  Meer
• Aangepaste boorsputterdoelen

  Wij leveren zeer zuivere, dichte boordoelen die perfect geschikt zijn voor halfgeleider- en coatingprocessen. Wij ondersteunen productie op maat op basis van technische tekeningen, waarbij we de...

  Meer
• Aangepast 3N5 rond wolfraamdoel

  We bieden op maat-gemaakte circulaire wolfraamdoelen met een zuiverheid van 3N5 (99,95%). Ze zijn vervaardigd met behulp van poedermetallurgie, hebben een uniforme microstructuur, een hoge...

  Meer
• Aangepast Hf-sputterdoel met hoge zuiverheid

  Wij bieden op maat gemaakte-gemaakte hafnium-sputterdoelen met hoge- zuiverheid, een zuiverheid van meer dan 99,9%, met een uniforme dichtheid en een fijne microstructuur. Ze zijn speciaal...

  Meer
• Aangepaste 3N5 Hafniumstaaf

  3N5 hafniumstaven met hoge-zuiverheid, 99,95% zuiverheid, nucleaire-kwaliteit! Bestand tegen ultra-hoge temperaturen en sterke corrosie, de eerste keuze voor kernreactoren, ruimtevaartmotoren en...

  Meer
• Aangepast 3N blikken doel

  Hoog-zuiver 3N blikken sputterdoel + op maat gemaakte koperen achterplaat verdubbelt de sputterefficiëntie! Naadloze hechting voorkomt loslaten, wat resulteert in uniforme, onzuiverheid-vrije...

  Meer
• Aanpasbaar 3N5 rechthoekig hafniumdoel

  3N5 hafniumdoel met hoge-zuiverheid, 99,95% zuiverheid, aangepaste rechthoekige afmetingen nauwkeurig tot op de micrometer! De eerste keuze voor halfgeleidercoating en optische coating, die een...

  Meer
• 4N Mg Magnesium sputterdoel

  4N magnesium sputterdoelen zijn hoog-zuivere metalen sputtermaterialen met een zuiverheid groter dan of gelijk aan 99,99%. Ze hebben fijne korrels en een uniforme samenstelling, waardoor ze...

  Meer
• 99,95% Hf Hafnium sputterdoel

  Hafnium-sputterdoel met een hoge zuiverheidsgraad van 99,95%, Hf-metaaldoel uit de ruimtevaart-kwaliteit, aangepast formaat, gebonden koperen achterplaat, gebruikt voor dunne halfgeleiderfilms,...

  Meer
• Zirkonium buisdoel

  Zirkoniumbuisdoelen zijn dun{0}}wandige zirkoniumbuizen met hoge- zuiverheid die corrosiebestendig- en bestand zijn tegen hoge- temperaturen, waardoor tijdens het sputteren een dichte, uniforme...

  Meer
• Beryllium sputterdoel

  Beryllium is een staalgrijs metaal dat bij kamertemperatuur vrij bros is en waarvan de chemische eigenschappen enigszins lijken op die van aluminium.

  Meer
• Chroom (Cr) sputterdoel

  Chroom sputtertrefplaat heeft dezelfde eigenschappen als metaalchroom (Cr), Chroom is een chemisch element met symbool Cr en atoomnummer 24, het is een staalgrijs, glanzend, hard en bros...

  Meer