Keramische sputterdoelen

• 4N ZrO2-sputterdoel met Cu-achterplaat

  Onze zirkoniumdioxide-sputterdoelen met steunplaten zijn vervaardigd met behulp van zeer-zuiver zirkoniumdioxidemateriaal, stevig verbonden met een metalen steunplaat; dit ontwerp zorgt voor een...

  Meer
• ZrC-sputterdoel met Cu-achterplaat

  Onze sputterdoelen van zirkoniumcarbide (ZrC) met koperen steunplaten hebben een robuuste verbinding tussen het zeer-zuivere ZrC-doelmateriaal en de koperen achterkant. Dit ontwerp zorgt voor een...

  Meer
• Ta 5at% gedopeerd ZrC-sputterdoel

  Nauwkeurige dotering van zirkoniumcarbide met een tantaalverhouding van 5 atoomprocent verbetert de hoge- temperatuurbestendigheid, thermische schokbestendigheid en corrosiebestendigheid van het...

  Meer
• 4N IGZO sputterdoel

  Onze 4N IGZO-sputterdoelen leveren stabielere en efficiëntere sputterprestaties. Ze zijn gespecialiseerd voor hoogwaardige display- en halfgeleidertoepassingen en faciliteren de realisatie van...

  Meer
• 4N HfO2-doelwit met koperen achterplaat

  Het 4N HfO₂-sputterdoel met koperen achterkant maakt gebruik van hafniumoxidemateriaal met een zuiverheid van 99,99%. Geïntegreerd met een koperen achterkant, biedt het een uitstekende thermische...

  Meer
• 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

  Het 2% Ti-gedoteerde HfO₂-sputterdoel is vervaardigd met behulp van een hoog-zuiver hafniumoxidesubstraat, nauwkeurig gedoteerd met 2% titanium. Gekenmerkt door zijn uniformiteit in samenstelling...

  Meer
• 4N HfO2 Sputtering Target

  4N High-Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99.99% Purity)—suitable for applications in optical coatings, semiconductors, and precision electronics. Features high density, uniform...

  Meer
• B4C sputterdoel

  Dit product maakt gebruik van zeer-zuivere boorcarbidegrondstoffen en beschikt over een uitzonderlijke hardheid en robuuste thermische stabiliteit, waardoor het ideaal is voor toepassingen in de...

  Meer
• Aangepaste HfC-deeltjes

  Beschrijving van op maat gemaakte HfC-deeltjes HfC-deeltjes worden doorgaans gesynthetiseerd door hafniumdioxide (HfO₂) te laten reageren met koolstof bij hoge temperaturen (1900–2300 graden) in...

  Meer
• Tinoxide (SnO2) sputterdoel

  Tinoxide target (SnO2) is een belangrijk anorganisch niet-metalen materiaal. Vanwege zijn unieke fysieke en chemische eigenschappen speelt het een belangrijke rol in veel hightechvelden. De...

  Meer
• Tantaaloxide (Ta2O5) sputterdoel

  Tantalum Oxide Sputtering Target kan worden gebruikt in halfgeleider-, chemische dampdepositie (CVD), fysieke dampdepositie (PVD) display- en optische toepassingen. Wij zijn een leverancier van...

  Meer
• Titaniumoxide (TiO2) sputterdoel

  Titaandioxide (TiO2) is het meest gebruikte witte pigment, bijvoorbeeld in verf. Het heeft een hoge helderheid en een zeer hoge brekingsindex (2,609 voor rutiel).

  Meer