PVD-coatingmateriaal

• 4N ZrO2-sputterdoel met Cu-achterplaat

  Onze zirkoniumdioxide-sputterdoelen met steunplaten zijn vervaardigd met behulp van zeer-zuiver zirkoniumdioxidemateriaal, stevig verbonden met een metalen steunplaat; dit ontwerp zorgt voor een...

  Meer
• ZrC-sputterdoel met Cu-achterplaat

  Onze sputterdoelen van zirkoniumcarbide (ZrC) met koperen steunplaten hebben een robuuste verbinding tussen het zeer-zuivere ZrC-doelmateriaal en de koperen achterkant. Dit ontwerp zorgt voor een...

  Meer
• Ta 5at% gedopeerd ZrC-sputterdoel

  Nauwkeurige dotering van zirkoniumcarbide met een tantaalverhouding van 5 atoomprocent verbetert de hoge- temperatuurbestendigheid, thermische schokbestendigheid en corrosiebestendigheid van het...

  Meer
• 4N IGZO sputterdoel

  Onze 4N IGZO-sputterdoelen leveren stabielere en efficiëntere sputterprestaties. Ze zijn gespecialiseerd voor hoogwaardige display- en halfgeleidertoepassingen en faciliteren de realisatie van...

  Meer
• 4N HfO2-doelwit met koperen achterplaat

  Het 4N HfO₂-sputterdoel met koperen achterkant maakt gebruik van hafniumoxidemateriaal met een zuiverheid van 99,99%. Geïntegreerd met een koperen achterkant, biedt het een uitstekende thermische...

  Meer
• 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

  Het 2% Ti-gedoteerde HfO₂-sputterdoel is vervaardigd met behulp van een hoog-zuiver hafniumoxidesubstraat, nauwkeurig gedoteerd met 2% titanium. Gekenmerkt door zijn uniformiteit in samenstelling...

  Meer
• 4N HfO2 Sputtering Target

  4N High-Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99.99% Purity)—suitable for applications in optical coatings, semiconductors, and precision electronics. Features high density, uniform...

  Meer
• Aanpasbaar 4N koolstofsputterdoel

  Onze hoog{0}}zuivere 4N-koolstofsputterdoelen zijn gemaakt van 99,99% puur koolstofmateriaal, hebben een laag onzuiverheidsniveau, waardoor ze ideaal zijn voor toepassingen in halfgeleiders,...

  Meer
• B4C sputterdoel

  Dit product maakt gebruik van zeer-zuivere boorcarbidegrondstoffen en beschikt over een uitzonderlijke hardheid en robuuste thermische stabiliteit, waardoor het ideaal is voor toepassingen in de...

  Meer
• Aangepaste boorsputterdoelen

  Wij leveren zeer zuivere, dichte boordoelen die perfect geschikt zijn voor halfgeleider- en coatingprocessen. Wij ondersteunen productie op maat op basis van technische tekeningen, waarbij we de...

  Meer
• Aangepast 3N5 rond wolfraamdoel

  We bieden op maat-gemaakte circulaire wolfraamdoelen met een zuiverheid van 3N5 (99,95%). Ze zijn vervaardigd met behulp van poedermetallurgie, hebben een uniforme microstructuur, een hoge...

  Meer
• Aangepast Hf-sputterdoel met hoge zuiverheid

  Wij bieden op maat gemaakte-gemaakte hafnium-sputterdoelen met hoge- zuiverheid, een zuiverheid van meer dan 99,9%, met een uniforme dichtheid en een fijne microstructuur. Ze zijn speciaal...

  Meer