PVD-coatingmateriaal

• Aangepaste 3N5 Hafniumstaaf

  3N5 hafniumstaven met hoge-zuiverheid, 99,95% zuiverheid, nucleaire-kwaliteit! Bestand tegen ultra-hoge temperaturen en sterke corrosie, de eerste keuze voor kernreactoren, ruimtevaartmotoren en...

  Meer
• 4N koolstofdoel met koperen achterplaat

  4N hoog-zuiver koolstofsputterdoel met koperen achterplaat, 99,99% zuiverheid, zorgt voor stabieler sputteren! De koperen achterplaat zorgt voor een snelle thermische geleidbaarheid en een sterke...

  Meer
• Aangepast 3N blikken doel

  Hoog-zuiver 3N blikken sputterdoel + op maat gemaakte koperen achterplaat verdubbelt de sputterefficiëntie! Naadloze hechting voorkomt loslaten, wat resulteert in uniforme, onzuiverheid-vrije...

  Meer
• Aangepaste HfC-deeltjes

  Beschrijving van op maat gemaakte HfC-deeltjes HfC-deeltjes worden doorgaans gesynthetiseerd door hafniumdioxide (HfO₂) te laten reageren met koolstof bij hoge temperaturen (1900–2300 graden) in...

  Meer
• Aanpasbaar 3N5 rechthoekig hafniumdoel

  3N5 hafniumdoel met hoge-zuiverheid, 99,95% zuiverheid, aangepaste rechthoekige afmetingen nauwkeurig tot op de micrometer! De eerste keuze voor halfgeleidercoating en optische coating, die een...

  Meer
• 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3-doel

  Beschrijving van 3N Pb1.1(Zr0,51Ti0,48Mn0,01)O3 Target Pb1.1(Zr0,51Ti0,48Mn0,01)O3 is een speciaal gedoteerd sputterdoel op basis van loodzirkonaattitanaat (PZT)-. De chemische kernformule is...

  Meer
• 4N Mg Magnesium sputterdoel

  4N magnesium sputterdoelen zijn hoog-zuivere metalen sputtermaterialen met een zuiverheid groter dan of gelijk aan 99,99%. Ze hebben fijne korrels en een uniforme samenstelling, waardoor ze...

  Meer
• 99,95% Hf Hafnium sputterdoel

  Hafnium-sputterdoel met een hoge zuiverheidsgraad van 99,95%, Hf-metaaldoel uit de ruimtevaart-kwaliteit, aangepast formaat, gebonden koperen achterplaat, gebruikt voor dunne halfgeleiderfilms,...

  Meer
• Zirkonium buisdoel

  Zirkoniumbuisdoelen zijn dun{0}}wandige zirkoniumbuizen met hoge- zuiverheid die corrosiebestendig- en bestand zijn tegen hoge- temperaturen, waardoor tijdens het sputteren een dichte, uniforme...

  Meer
• Zrti sputterend doelwit

  Zrti sputtering doelwit wordt voornamelijk gebruikt in de elektronische informatie-industrie, glazen coatingveld, hoge temperatuur corrosiebestendige materialen, hoogwaardige decoratieve...

  Meer
• Zrti sputter -doelen

  Zrti -sputterdoelen zijn een van de veelgebruikte sputterende doelen van metaal, die kunnen worden onderverdeeld in vlakke doelen, gespoten doelen en roterende doelen, enz., En spelen een...

  Meer
• Zirkonium titanium zrti sputteren doelwit

  Zirkonium titanium zrti sputtering doelwit wordt veel gebruikt in multi-arc-vacuümcoating of magnetron sputterende PVD in de industrie, en kan worden gebruikt als slijtvaste materialen,...

  Meer