PVD-coatingmateriaal

  • Niobiumoxide (Nb2O5) sputterdoel
    Onze niobiumoxide targets worden geproduceerd met behulp van geavanceerde vacuüm warmpers-, warm isostatisch pers-, koudpers-sinter- en thermische spuitprocessen. Onze producten omvatten...
    Meer
  • Nikkeloxide (NiO) sputterdoel
    NiO target is een materiaal dat wordt gebruikt in dunnefilmgroeitechnologieën zoals fysieke dampdepositie (PVD) en chemische dampdepositie (CVD). Deze technologieën spelen een centrale rol in de...
    Meer
  • Siliciumcarbide (SiC) sputterdoel
    In dit gedeelte worden de basiskenmerken van siliciumcarbidedoelen gedetailleerd besproken, van de chemische en fysische eigenschappen, bereidingsmethoden tot een uitgebreide analyse van...
    Meer
  • Siliciummonoxide (SiO2) sputterdoel
    Siliciummonoxide is een anorganische verbinding met de chemische formule SiO. Het is een zwartbruin tot lösskleurig amorf poeder bij kamertemperatuur en druk.
    Meer
  • Sputterdoel van aluminiumoxide (Al2O3)
    Aluminiumoxide targetmateriaal, dit keramische materiaal met hoge zuiverheid en hoge dichtheid, heeft niet alleen een uitstekende stabiliteit, maar kan ook extreme thermische omgevingen weerstaan....
    Meer
  • Aluminium Nitride (AlN) Sputterdoel
    Aluminium nitride sputterdoel kan ook worden genoemd: aluminium nitride van hoge zuiverheid, dunfilm depositiemateriaal, doelwit voor de halfgeleiderindustrie, AlN sputterdoel, keramisch...
    Meer
  • Boron (B) Sputterdoel
    Boron sputtering target heeft dezelfde eigenschappen als boron. Boron is een chemisch element dat afkomstig is van het Arabische 'buraq', wat de naam was voor borax. "B" is het canonieke chemische...
    Meer
  • Sputterdoel van aluminiumzinkoxide (AZO)
    AZO target, volledige naam zinkoxide aluminium target, is een speciaal gedoteerd halfgeleidermateriaal. Het is specifiek een composietmateriaal dat bestaat uit zinkoxide (ZnO) en aluminium (Al),...
    Meer
  • Bariumtitanaat (BaTiO3) sputterdoel
    Bariumtitanaat is een kristallijne vaste stof die wordt gebruikt in opto-elektronische toepassingen en als diëlektrisch keramiek in condensatoren met een diëlektrische constante waarde van wel...
    Meer
  • Boron Nitride (BN) Sputterdoel
    Boornitride (BN) is een kristal dat bestaat uit stikstofatomen en booratomen. Het is meestal zwart, bruin of donkerrood. Het heeft een sfalerietstructuur, goede thermische geleidbaarheid en de...
    Meer
  • Boroncarbide (B4C) Sputterdoel
    Boron Carbide: Het werd ontdekt in de 19e eeuw als een bijproduct van metaalborideonderzoek en werd pas wetenschappelijk bestudeerd in de jaren 1830. Het is de vijfde hardste bekende substantie na...
    Meer
  • Ceriumoxide (CeO2) sputterdoel
    Ceriumoxide is een anorganische substantie met de chemische formule CeO2, lichtgeel of geelbruin poeder. Dichtheid 7,13 g/cm3, smeltpunt 2397 graden, onoplosbaar in water en alkali, licht...
    Meer

Wij zijn professionele leveranciers van PVD-coatingmateriaal in China, gespecialiseerd in het leveren van hoogwaardige, op maat gemaakte service. Wij heten u van harte welkom om PVD-coatingmateriaal met korting hier op voorraad te kopen en een gratis monster van onze fabriek te ontvangen. Neem contact met ons op voor prijsconsultatie.