PVD-coatingmateriaal

• Boron (B) Sputterdoel

  Boron sputtering target heeft dezelfde eigenschappen als boron. Boron is een chemisch element dat afkomstig is van het Arabische 'buraq', wat de naam was voor borax. "B" is het canonieke chemische...

  Meer
• Sputterdoel van aluminiumzinkoxide (AZO)

  AZO target, volledige naam zinkoxide aluminium target, is een speciaal gedoteerd halfgeleidermateriaal. Het is specifiek een composietmateriaal dat bestaat uit zinkoxide (ZnO) en aluminium (Al),...

  Meer
• Bariumtitanaat (BaTiO3) sputterdoel

  Bariumtitanaat is een kristallijne vaste stof die wordt gebruikt in opto-elektronische toepassingen en als diëlektrisch keramiek in condensatoren met een diëlektrische constante waarde van wel...

  Meer
• Boron Nitride (BN) Sputterdoel

  Boornitride (BN) is een kristal dat bestaat uit stikstofatomen en booratomen. Het is meestal zwart, bruin of donkerrood. Het heeft een sfalerietstructuur, goede thermische geleidbaarheid en de...

  Meer
• Boroncarbide (B4C) Sputterdoel

  Boron Carbide: Het werd ontdekt in de 19e eeuw als een bijproduct van metaalborideonderzoek en werd pas wetenschappelijk bestudeerd in de jaren 1830. Het is de vijfde hardste bekende substantie na...

  Meer
• Ceriumoxide (CeO2) sputterdoel

  Ceriumoxide is een anorganische substantie met de chemische formule CeO2, lichtgeel of geelbruin poeder. Dichtheid 7,13 g/cm3, smeltpunt 2397 graden, onoplosbaar in water en alkali, licht...

  Meer
• Hafniumoxide (HfO2) sputterdoel

  Zirconia (ZrO2), ook bekend als zirkoniumdioxide, is een zeer belangrijk hoogwaardig keramisch materiaal. Vanwege het hoge smeltpunt, de hoge buigsterkte en de chemische stabiliteit wordt het veel...

  Meer
• Indiumoxide (In2O3) sputterdoel

  Indiumoxide is een oxide met de moleculaire formule In2O3. Het zuivere product is een wit of lichtgeel amorf poeder, dat roodbruin wordt bij verhitting. Indiumoxide is een nieuw n-type transparant...

  Meer
• Indiumtinoxide (ITO) sputterdoel

  ITO-doelmateriaal, Indium Tin Oxide, is een belangrijk transparant geleidend materiaal. Op het gebied van dunne-filmpreparatie worden ITO-doelen veel gebruikt als basisgrondstof in elektronische...

  Meer
• Siliciumoxide (SiO2) sputterdoel

  Siliciumdioxide, als een veelgebruikt materiaal in moderne technologie, heeft veel aandacht gekregen vanwege zijn uitstekende fysieke en chemische eigenschappen. Vooral in magnetron...

  Meer
• Indium Gallium Zink Oxide (IGZO) Sputterdoel

  Wij verwerken Indium Gallium Zink Oxide (IGZO) Sputtering Targets met hoge kwaliteit tegen een concurrerende prijs. IGZO sputtering target, waarvan de volledige naam indium gallium zinkoxide...

  Meer
• Siliciumnitride (Si3N4) sputterdoel

  Siliciumnitride sputterdoel is een type nitridekeramisch sputterdoel. Si3N4 is een keramisch materiaal met een hoog smeltpunt dat extreem hard en relatief chemisch inert is. Si3N4 wordt bereid...

  Meer