Siliciumnitride (Si3N4) sputterdoel

Siliciumnitride sputterdoel is een type nitridekeramisch sputterdoel. Si3N4 is een keramisch materiaal met een hoog smeltpunt dat extreem hard en relatief chemisch inert is. Si3N4 wordt bereid door siliciumpoeder te verhitten tussen 1300 graden en 1400 graden in een atmosfeer van stikstof.

Aanvraag sturen

Productbeschrijving

Siliciumnitride sputtertarget is een type nitride keramische sputtertarget. Si3N4 is een keramisch materiaal met een hoog smeltpunt dat extreem hard en relatief chemisch inert is. Si3N4 wordt bereid door siliciumpoeder te verhitten tussen 1300 graden en 1400 graden in een atmosfeer van stikstof. Vervolgens kan het poeder van siliciumnitride worden gesinterd tot de ontworpen vorm. Siliciumnitride sputtertarget wordt gebruikt voor dunnefilmdepositie.

productnaam	Siliciumnitride sputterdoel
Beschikbare zuiverheid	99,9%min,zoals gevraagd
Beschikbare vorm	rond, rechthoekig, pellets
Maat	Bespreekbaar
Technologie	poeder-Metallurgie
Sollicitatie	Vacuümcoating, proces, decoratie, LED, semi,
Gerelateerde producten	ZrO2.SiN,LaB6,Cr2O3,C,B,enz.