Productbeschrijving
Sputteren is een bewezen technologie waarmee dunne films van een grote verscheidenheid aan materialen op substraten met uiteenlopende vormen en afmetingen kunnen worden aangebracht.
Het proces met sputter targets is herhaalbaar en kan worden opgeschaald van kleine onderzoeks- en ontwikkelingsprojecten. Het proces met sputter
targets kunnen worden aangepast aan de productiebatches met middelgrote tot grote substraatoppervlakken. De chemische reactie kan plaatsvinden op de target
oppervlak, in de vlucht of op het substraat, afhankelijk van de procesparameters. De vele parameters maken sputterdepositie een complex proces, maar geven experts een grote mate van controle over de groei en microstructuur van het gebied.
Toepassingen van sputterdoelen
Sputterdoelen worden gebruikt voor filmdepositie. De depositie die door sputterdoelen wordt gemaakt, is een methode voor het deponeren van dunne films door sputteren, waarbij materiaal van een "doel"-bron op een "substraat" zoals een siliciumwafer wordt geërodeerd.
Semiconductor sputtering targets worden gebruikt om het target te etsen. Sputter etsen wordt gekozen in gevallen waar een hoge mate van ets anisotropie nodig is en selectiviteit geen probleem is. Sputter targets worden ook gebruikt voor analyse door het target materiaal weg te etsen.
|
Item: |
LiCoO2 sputterdoel |
|
Puurheid: |
99.90% |
|
Maat: |
op maat gemaakt |
|
Vorm: |
rond of rechthoekig |
|
Technologie: |
PK |
|
Sollicitatie: |
PVD-coatingindustrie |
|
Inpakken: |
vacuümverpakking, karton of houten kist buiten |
Populaire tags: lithiumkobaltaat (licoo2) sputterdoel, Chinese lithiumkobaltaat (licoo2) sputterdoel leveranciers, fabriek
