PVD-coatingmateriaal

• Cobalt Tantaal Zirkonium (CoTaZr) Sputterdoel

  Cobalt Tantalum Zirconium Sputtering Target wordt geproduceerd door smelttechnologie, het wordt meestal toegepast voor magnetische dataopslagvelden. Met een zuiverheid tot 3N5, uniforme...

  Meer
• Cerium Gadolinium (CeGd) Sputterdoel

  Cerium Gadolinium Alloy Sputtering Target (CeGd) is een belangrijk materiaal bij dunne-filmdepositie. Deze legering, die cerium en gadolinium combineert, biedt unieke eigenschappen voor...

  Meer
• Beryllium sputterdoel

  Beryllium is een staalgrijs metaal dat bij kamertemperatuur vrij bros is en waarvan de chemische eigenschappen enigszins lijken op die van aluminium.

  Meer
• Chroom (Cr) sputterdoel

  Chroom sputtertrefplaat heeft dezelfde eigenschappen als metaalchroom (Cr), Chroom is een chemisch element met symbool Cr en atoomnummer 24, het is een staalgrijs, glanzend, hard en bros...

  Meer
• Ruthenium (Ru) Sputterdoel

  Het ruthenium sputterdoel is een grijs doel dat is samengesteld uit zeer zuiver ruthenium. Ruthenium is een chemisch element met symbool Ru en atoomnummer 44. Het is een zeldzaam overgangsmetaal...

  Meer
• Scandium (Sc) Sputterdoel

  Scandium is een chemisch element met symbool Sc en atoomnummer 21. Het is een zacht, zilverwit overgangsmetaal met een smeltpunt van 1541 graden en een kookpunt van 2831 graden. Gemakkelijk...

  Meer
• Selenium (Se) sputterdoel

  Selenium is een niet-metalen chemisch element, lid van groep XVI van het periodiek systeem. In chemische activiteit en fysische eigenschappen lijkt het op zwavel en tellurium. Seleniummetaal...

  Meer
• Silicium (Si) sputterdoel

  Polykristallijn silicium, ook wel polysilicium of poly-Si genoemd, is een polykristallijne vorm van silicium met een hoge zuiverheidsgraad, die als grondstof wordt gebruikt door de fotovoltaïsche...

  Meer
• Tin (Sn) Sputterdoel

  Het titanium sputterdoel is gemaakt van titaniummetaal. Als metaal staat titanium bekend om zijn hoge sterkte-gewichtsverhouding. Het is een sterk metaal met een lage dichtheid dat vrij ductiel is...

  Meer
• Titanium (Ti) sputterdoel

  Het titanium sputterdoel is gemaakt van titaniummetaal. Als metaal staat titanium bekend om zijn hoge sterkte-gewichtsverhouding. Het is een sterk metaal met een lage dichtheid dat vrij ductiel is...

  Meer
• Wolfraam (W) Sputterdoel

  Wolfraam sputter targets zijn gemaakt van wolfraammetaal met een hoge zuiverheidsgraad, dat doorgaans kwetsbaar en moeilijk te verwerken is. Als wolfraam tot een zeer zuiver materiaal wordt...

  Meer
• Vanadium (V) sputterdoel

  Vanadium sputtering target deelt eigenschappen met zijn bronmateriaal. Vanadium is een chemisch element met symbool V en atoomnummer 23. Het is een hard, zilvergrijs, ductiel, kneedbaar...

  Meer