4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel
4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

Het 2% Ti-gedoteerde HfO₂-sputterdoel is vervaardigd met behulp van een hoog-zuiver hafniumoxidesubstraat, nauwkeurig gedoteerd met 2% titanium. Gekenmerkt door zijn uniformiteit in samenstelling en hoge dichtheid, is het bij uitstek geschikt voor toepassingen in optische coating, dunne- halfgeleiderfilmafzetting en de bereiding van functionele coatings. Het doel vertoont uitstekende thermische stabiliteit en elektrische eigenschappen en zorgt voor een stabiel en controleerbaar sputterproces, waardoor de nauwkeurige afzetting van hoogwaardige dunne- filmmaterialen wordt vergemakkelijkt.
Aanvraag sturen
Beschrijving van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doelwit

 

De HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doelwit is een functionele materiaalvoorloper die is vervaardigd via nauwkeurige dopingtechnieken op atomair-niveau. In de kern omvat dit materiaal de introductie van titanium in een hafniumdioxidematrix met een molaire verhouding van 2%, waardoor een vaste oplossing ontstaat waarin Ti⁴⁺-ionen de Hf⁴⁺-ionen in het HfO₂-kristalrooster gedeeltelijk vervangen. Dit dopingproces is niet slechts een eenvoudig fysisch mengsel; het is eerder ontworpen om de microstructuur en elektronische eigenschappen van het materiaal actief te moduleren, waardoor het specifieke functionaliteiten krijgt die die van pure HfO₂ overtreffen. De fysieke vorm van het sputterdoel dient als cruciaal voertuig voor de toepassing ervan in geavanceerde dunnefilm-fabricagetechnologieën. Dergelijke doelen moeten voldoen aan strenge normen voor hoge zuiverheid (doorgaans 99,99% of hoger), hoge dichtheid en uniformiteit in de samenstelling. Hoge zuiverheid is essentieel om te voorkomen dat ongecontroleerde onzuiverheden de prestaties van de resulterende dunne film in gevaar brengen; omgekeerd zorgen hoge dichtheid en uniformiteit voor de stabiliteit van zowel de samenstelling van de film als de afzettingssnelheid ervan tijdens het sputterproces, waardoor de dunne film precies de ontworpen kenmerken van het doelmateriaal kan "erven".

 

Toepassingen van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target

 

Geavanceerd halfgeleidergeheugen: met name op het gebied van ferroelektrisch willekeurig-toegangsgeheugen (FeRAM). Titaniumdotering helpt de ferro-elektrische orthorhombische fase van HfO₂ te stabiliseren, waardoor deze uitstekende ferro-elektrische schakelkarakteristieken krijgt die voldoen aan de vereisten voor geheugenapparaten met hoge-dichtheid en laag- vermogen.
Hoge-diëlektrische-constante (hoge-κ) poortdiëlektrica: in geïntegreerde schakelingen dient het als de diëlektrische laag voor transistorpoorten; Door gebruik te maken van de hoge diëlektrische constante vermindert het effectief de fysieke dikte, terwijl de uitstekende isolatieprestaties en betrouwbaarheid behouden blijven.
Functionele coatings en optische dunne films: gebruikmakend van de hoge brekingsindex, uitstekende chemische stabiliteit en optische eigenschappen-die kunnen worden afgestemd door middel van doping-, wordt het gebruikt in gespecialiseerde optische coatings of beschermende lagen.

 

Specificaties van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target

 

Maat: 50,8 mm diameter. *3 mm tk

Type verlijming: In

Achterplaat: Cu

Afmeting achterplaat: 50,8 mm diameter *3 mm tk

 

Kwaliteitscontrole en testen van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

 

1QC

 

Veelgestelde vragen voor 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doel

 

Ben jij een fabriek of afabrikant?
A: Ja, we zijn een 4N HfO2-gedoteerd met 2% Ti Target-fabriek, maar over het algemeen gebruiken we ons handelsbedrijf om de zaken in het buitenland af te handelen. Het is handiger om de overboeking te ontvangen en de verzending te regelen.

Wat is de bezorgmethode?
A: Over het algemeen sturen we 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target via UPS, DHL of FedEx. Ook kunnen we over zee verzenden naar een zeehaven of door de lucht naar de dichtstbijzijnde luchthaven.

Waarom is uw 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target zo kosteneffectief-?
A: We schakelen tussenpersonen uit in het -tot-productieproces, en we betrekken de grondstoffen rechtstreeks bij de bron.

Doet u kwaliteitscontrole vanproducten?
A: Zeker 100% volledige inspectie. Alle niet-gekwalificeerde 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti-doelen worden weggegooid.

Hoe waarborgt u uw doorlooptijd?
A: Van materiaalvoorbereiding tot bewerking en uiteindelijk tot een volledige inspectie. Elke productiefase wordt strikt gecontroleerd en gecontroleerd om u een nauwkeurige levertijd te geven.

Wat is de MOQ van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target?
A: Hangt af van de hoeveelheid 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target; over het algemeen geen MOQ-limiet.

Hoe te betalende producten?
A: Een bankoverschrijving (T/T) is acceptabel.

Wat is de levertijd?
A: Ongeveer 7-20 dagen, afhankelijk van de hoeveelheid en productie van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target.

Wat voor soort pakket is het?
A: Over het algemeen gebruiken we een kartonnen doos of multiplex koffer met beschermend materiaal aan de binnenkant om de veiligheid van 4N HfO2 gedoteerd met 2% Ti Target te garanderen.

Wat is de doorlooptijd?
A: Vanaf het plaatsen van de bestelling tot het ontvangen van de vracht duurt het ongeveer 10-25 dagen.

 

4

 

Populaire tags: 4n hfo2 gedoteerd met 2% ti-doel, China 4n hfo2 gedoteerd met 2% ti-doel leveranciers, fabriek