Kobalt sputterdoel

Kobalt is een bros, hard metaal, dat qua uiterlijk lijkt op ijzer en nikkel. Het heeft een metaalpermeabiliteit van ongeveer twee derde van die van ijzer. Kobalt bestaat meestal als een mengsel van twee allotropen over een breed temperatuurbereik. De transformatie is traag en verklaart deels de grote variatie in gerapporteerde gegevens over de fysieke eigenschappen van kobalt.

Smeltpunt: 1495 graden Kookpunt: 2927 graden

Een sputtertarget is een schijf van een materiaal met een hoge zuiverheidsgraad die wordt gebruikt als een atomaire sputterbron voor ionenbundelbombardement. Neem contact met ons op als uw vereiste sputtertargetgrootte en/of zuiverheid niet vermeld staan.

Sputteren is een veelgebruikte methode voor dunnefilmdepositie, waarbij gebruik wordt gemaakt van een fysisch dampdepositieproces (PVD), waarbij atomen uit een vast doelmateriaal worden geworpen door bombardement van het doel met energetische deeltjes.

In het geval van een kobalt sputterdoel wordt kobalt van hoge zuiverheid gebruikt als doelmateriaal. Het proces begint met het creëren van een plasma in de sputterkamer, meestal met argongas. Ionen uit het plasma worden versneld naar het kobaltdoel met voldoende energie om kobaltatomen van het doeloppervlak los te maken. Terwijl deze kobaltatomen worden uitgeworpen, reizen ze door de vacuümkamer en slaan neer op een substraat, waarbij een dunne film met de gewenste eigenschappen wordt gevormd. De sputteromstandigheden, waaronder het vermogen dat op het doel wordt toegepast, het vacuümniveau en de gassamenstelling, worden nauwkeurig gecontroleerd om de vereiste filmeigenschappen te bereiken, zoals dikte, uniformiteit en kristalstructuur.

Cobalt (Co) dunne-film coatings geproduceerd via sputteren zijn integraal in verschillende sectoren vanwege de magnetische eigenschappen, slijtvastheid en chemische stabiliteit van kobalt. Deze films worden voornamelijk gebruikt in de dataopslagindustrie voor magnetische opnamemedia. Ze vinden ook toepassingen in de elektronica-industrie voor de fabricage van magnetische sensoren, inductieve componenten en micro-elektromechanische systemen.

Cobalt Target sputterdoelen zijn gemaakt van metalen met een hoge zuiverheid, 99,99% kobalt

Standaarddikte 0.1 mm (100 µm) Andere diktes op aanvraag verkrijgbaar

Beschikbare diameters Ø 20.0 mm, 20.4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50.8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63.5 mm, 75 mm, 76 mm.

Populaire tags: kobalt sputterdoel, Chinese kobalt sputterdoel leveranciers, fabriek