Wolfraam-titaniumlegering is een materiaal dat is gelegeerd van de overgangsmetalen wolfraam en titanium. Het heeft een nog hogere dichtheid en zuiverheid, betere weerstand tegen corrosie en een lagere volume-expansie, waardoor de deeltjesvorming tijdens de productie effectief wordt verminderd, waardoor de fabricage van dunne films van hoge kwaliteit succesvol wordt.
Doelen van wolfraam-titaniumlegeringen worden geproduceerd met behulp van poedermetallurgietechnologie en worden veel gebruikt in halfgeleiders en dunne-filmzonnecellen. In halfgeleidertoepassingen dienen dunne films van 10 gew.% WTi als diffusiebarrières en adhesielagen om metallisatielagen van halfgeleiders te scheiden, bijvoorbeeld door aluminium van silicium of koper van silicium te scheiden. Dit verbetert de functionaliteit van halfgeleiders in microchips aanzienlijk. In dunne-film-zonnecellen dienen WTi-films van 10 gew.% ook als barrièrelaag om te voorkomen dat ijzeratomen uit het stalen substraat diffunderen naar het molybdeen-achtercontact en CIGS-halfgeleiders. Wolfraam-Titaanlegeringdoelen worden ook gebruikt in LED's en gereedschapscoatings.
De belangrijkste reden om te kiezen voor doelen uit een wolfraam-titaniumlegering als diffusiebarrières en verbindingslagen in nieuwe halfgeleiderchips is de uitstekende oppervlaktehechting en warmteafvoer van de legering, wat resulteert in producten met hogere algehele prestaties.
Voorbereidingsmethode voor wolfraam-titaniumdoelwit
1. Neem een bepaalde hoeveelheid wolfraampoeder en titaniumpoeder en meng ze gelijkmatig onder een inerte atmosfeer.
2. Gebruik een mechanische pers of een koude isostatische pers om het resulterende mengsel tot een knuppel te persen.
3. Plaats de resulterende knuppel in een vacuüm-sinteroven voor verdichting en sinteren.
4. Nadat u het in stap 3 gesinterde wolfraam-titaniummateriaal heeft afgekoeld, smelt u het in een niet-verbruikbare vacuümboogoven om het product te verkrijgen.
Voordelen van wolfraam-Titanium Target
1. Eenvoudig productieproces en eenvoudige bediening.
2. Door gebruik te maken van een wolfraam-titaniumpoedermengsel, gevolgd door persen, sinteren en boogsmelten, pakt dit proces effectief de uitdagingen op het gebied van lage efficiëntie, materiaaluniformiteit en onzuiverheidsgehalte aan bij de traditionele bereiding van wolfraam-titaniumlegeringen.
Our factory can produce WTi 90/10wt% and WTi 85/15wt% targets, and can also customize targets with special compositions. The actual target density is >99% en de gemiddelde korrelgrootte is<100μm. With purity up to 4N5 and special annealing treatment, uniform grain size and low gas content, end users can obtain constant etching rates as well as high-purity and uniform thin film coatings during the PVD process.
