Productbeschrijving
Wolfraamtitanium sputtertargets worden geproduceerd met behulp van poedermetallurgietechnologie en worden veel gebruikt voor halfgeleider- en dunnefilmzonnecellen.
Voor halfgeleidertoepassingen wordt WTi10wt% dunne film gebruikt als diffusiebarrière en hechtlaag, om de metallisatielagen van halfgeleiders te scheiden, bijvoorbeeld aluminium van silicium of koper van silicium. Zo kan de functie van halfgeleiders in microchips aanzienlijk worden verbeterd.
Voor dunnefilmzonnecellen wordt de WTi10wt% dunne film ook gebruikt als barrièrelaag om te voorkomen dat ijzeratomen in het stalen substraat naar het molybdeen-achtercontact en de CIGS-halfgeleider diffunderen. Wolfraamtitaniumdoelen worden ook gebruikt voor LED- en gereedschapscoating.
Onze fabriek kan WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% targets produceren en speciale samenstellingstargets kunnen worden aangepast, waarbij de werkelijke targets een dichtheid hebben van > 99%.
|
Item |
Sputterdoel van wolfraamtitanium |
|
Beschikbare zuiverheid |
99,9%min, zoals u wenst |
|
Beschikbare vorm |
Rechthoek, rond, roterend, pellets, ingots, volgens uw verzoek |
|
Maat |
Bespreekbaar |
|
Technologie |
Smeltend |
|
Sollicitatie |
Vacuümcoating, proces, decoratie, LED, semi, |
|
Gerelateerde producten |
WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu enz. |
Productieproces: smelten, laden en gereedschapsplateren.
1. Zuiverheid: 99,9%min,
2. Afmetingen: Afmetingen worden geproduceerd volgens de wensen van de klant
Toepassing: Het wordt voornamelijk gebruikt bij vacuümcoating, oppervlaktebehandeling, harde coating, coating van bouwglas, platte beeldschermen, coating van zonne-energie, optische coating en andere gebieden.
Populaire tags: wolfraam titanium (wti) sputterdoel, Chinese wolfraam titanium (wti) sputterdoel leveranciers, fabriek
