Nikkel (Ni) sputterdoel

Nikkel sputtertrefplaat is samengesteld uit nikkelmetaal met een hoge zuiverheidsgraad. Nikkel is een zilverwit metaal met een lichte gouden tint die een hoge glans nodig heeft. Het is een van de vier elementen die magnetisch zijn bij of nabij kamertemperatuur, de andere zijn ijzer, kobalt en gadolinium.

Aanvraag sturen

Productbeschrijving

Nikkel sputterdoel bestaat uit nikkelmetaal met een hoge zuiverheidsgraad. Nikkel is een zilverwit metaal met een lichte gouden tint die een hoge glans nodig heeft. Het is een van de vier elementen die magnetisch zijn bij of nabij kamertemperatuur, de andere zijn ijzer, kobalt en gadolinium. De Curietemperatuur is 355 graden (671 graden F), wat betekent dat bulknikkel niet-magnetisch is boven deze temperatuur. De eenheidscel van nikkel is een kubus met een vlak in het midden met een roosterparameter van 0.352 nm, wat een atomaire straal oplevert van 0.124 nm. Deze kristalstructuur is stabiel bij drukken van ten minste 70 GPa. Nikkel behoort tot de overgangsmetalen. Het is hard, kneedbaar en ductiel, en heeft een relatief hoge elektrische en thermische geleidbaarheid voor overgangsmetalen. De hoge druksterkte van 34 GPa, voorspeld voor ideale kristallen, wordt nooit verkregen in het echte bulkmateriaal vanwege de vorming en beweging van dislocaties; Bij Ni-nanodeeltjes is dit echter wel bereikt.

De hoogste zuiverheid van nikkel sputtering target is 99,999%, het wordt normaal gesproken gebruikt in de halfgeleider- en micro-elektronica-industrie, nikkel sputtering target is het belangrijkste materiaal voor halfgeleider back electrodes. Na herhaalde plastic verwerking heeft ons nikkel target een hoge dichtheid, hoge zuiverheid en uniforme korrelgrootte.

Nikkel (Ni) specificaties

materiaal type	Nikkel
Symbool	Ik
Atoomgewicht	58.6934
Atoomnummer	28
Kleur/Uiterlijk	Glanzende, metaalachtige, zilverachtige tint
Warmtegeleiding	91 W/m.K
Smeltpunt (graden)	1,453
Uitzettingscoëfficiënt	13.4 x 10-6/K