Productbeschrijving

Tantalum sputtering target is samengesteld uit staalgrijs tantalummetaal met een hoge zuiverheid. Tantalum is een blauwgrijs glanzend overgangsmetaal met een hoge corrosiebestendigheid. Het is onderdeel van de categorie vuurvaste metalen en wordt veel gebruikt als een klein onderdeel in legeringen. Tantalum is donker (blauwgrijs), dicht, ductiel, zeer hard, gemakkelijk te vervaardigen en heeft een hoge thermische en elektrische geleidbaarheid. Dit metaal staat bekend om zijn weerstand tegen zuurcorrosie. Sterker nog, bij temperaturen onder de 150 graden is tantalum bijna volledig immuun voor normaal koningswater.

Tantalum Sputtering Target wordt geproduceerd door EB-smelten. Het wordt meestal toegepast voor magnetische opnamemedia, printercomponenten, flat panel displays, optiek, industrieel glas en dunnefilmweerstanden. Tantalum Sputtering Target met hoge zuiverheid wordt normaal gesproken gebruikt voor de halfgeleiderindustrie. De hoge natuurlijke sterkte met lage thermische uitzettingscoëfficiënt, samen met het vermogen om te kleven aan zowel koper als silicium, maken het de perfecte keuze voor een diffusiebarrière om te voorkomen dat koper en silicium interacteren.

Yitech is een professionele producent van Tantalum sputtering targets met verschillende vormen en zuiverheid, die voornamelijk worden toegepast in de semi-geleidende & micro-elektronica industrie. Dankzij onze speciale vormprocessen, bezitten onze Tantalum sputtering targets een hogere dichtheid, kleinere gemiddelde deeltjesgrootte en hogere zuiverheid, zodat u kunt profiteren van een sneller proces vanwege hogere sputtersnelheid en zeer homogene Tantalum lagen kunt verkrijgen.

De microstructuur kan worden aangepast door ons flexibiliteitsproductieproces om het gewenste effect te bereiken. Als de korrels van het sputterdoel uniform zijn uitgelijnd, kan de gebruiker profiteren van constante erosiesnelheden en homogene lagen. Hieronder volgen twee micrografieën van ons tantaal sputterdoel, de gemiddelde korrelgrootte＜100μm.

Attributen Naam:Sputterdoel van metaal met hoge zuiverheid

Productnaam: Tantaal sputterdoel

Element Symbool:Ta

Zuiverheid: 3N5, 4N, 4N5, 5N

Vorm: Planair doel, roterend doel