Productbeschrijving
Wij leveren hoogwaardige sputtertargets: Ti50Al50 sputtertargets, keramische targets en metalen targets.
Sputtering Targets Ti50Al50 worden geproduceerd door HIP-technologie, en worden veel gebruikt voor gereedschapscoating en decoratieve coating. Vergeleken met smelttechnologie hebben TiAl targets die geproduceerd worden door HIP-technologie een uniformere micro-interne structuur, kleinere korrelgrootte en zijn ze geschikt voor verschillende magnetron sputtermachines en ion plating machines. Eindgebruikers kunnen constante erosiesnelheden verkrijgen, evenals een hoge zuiverheid en homogene dunne filmcoating tijdens het PVD-proces.
De met dunne TiAl-films beklede gereedschappen hebben een hogere voedingssnelheid, betere snijprestaties, een langere standtijd en kunnen zonder problemen hogere metaalverwijderingssnelheden bereiken.
Onze sputterdoelen Ti50Al50 worden geproduceerd door een geavanceerd HIP-proces en vacuüm-warmpersingsproces, inclusief vlakke doelen, cirkelboogdoelen, cilindrische doelen (gemaakt door monolithische vormingsmethode), enz. Het heeft kenmerken van een brede componentverhouding (vanaf 10at%-90at% voor Al-componenten), hoge zuiverheid en dichtheid, fijne en gelijkmatige korrel en langere levensduur, enz.
De typische componentverhoudingen voor TiAl-doelen zijn onder andere 33:67at%, 50:50at% en 70:30at%.
Productparameters
|
Chemische componenten (at%) |
Ti33Al67 zei: |
Ti50Al50 NL |
Ti70Al30 |
|
Puurheid (%) |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
|
Dichtheid (g/cm³) |
3.29 |
3.60 |
3.95 |
|
Korrelgrootte (μm) |
Minder dan of gelijk aan 100 |
Minder dan of gelijk aan 100 |
Minder dan of gelijk aan 100 |
|
Warmtegeleiding (W/mK) |
98 |
70 |
40 |
|
Warmte-uitzetting (1/K) |
1.9*10-5 |
1.75*10-5 |
1.35*10-5 |
|
Specificatie afmetingen (mm) |
Cilindrische doelen: |
||
Populaire tags: sputterdoel ti50al50, Chinese sputterdoel ti50al50 leveranciers, fabriek
