Tial sputterdarget

Tial sputterdarget

Magnetron sputteringstechnologie is een van de belangrijkste technologieën voor het bereiden van dunne filmmaterialen, en het metaalsputterdoel is het belangrijkste materiaal in het sputterproces.

Tial sputtering -doelwit heeft de uitstekende kenmerken van metalen titanium en metaalaluminium, zoals hoge ductiliteit, hoge slijtvastheid, uitstekende elektrische en thermische geleidbaarheid, optimale microstructuur, goede duurzaamheid, etsenprestaties en verwerkingsprestaties goed, goede bindingsprestaties met het substraat, etc.

Tial sputtering doelwit kan harde en oxidatieresistente nitride-coatings (TIALN) sputteren op oefeningen, snijders, inserts indexeerbare snij inserts en andere gereedschappen, en de voedingssnelheid verbeteren, de prestaties en de levensduur van verwerkingstools verbeteren.

Tial sputtering -target produceert ook lijm- en afdeklagen in geïntegreerde circuits, decoratieve coatings voor elektronische apparaten (zoals wijzerplaten voor mobiele telefoons, platte paneel displays of luxe horloges) en glazen coatings voor de auto -industrie.

Specificatie van tial sputtering doelwit

FAQ:

Wat is de MOQ?
A: Hangt af van de hoeveelheid, in het algemeen geen MOQ -limiet.

Hoe te betalen?
A: Een bankoverdracht (T\/T) zal acceptabel zijn.

Wat is de levertijd?
A: rond 7-20 dagen die afhankelijk zijn van de hoeveelheid en productie.

Wat is het pakket?
A: Cartoon Case of Multiplex Case.

Wat is de doorlooptijd?
A: Van bestelling geplaatst op vracht ontvangen duurt het rond 10-25 dagen.

Wat is de leveringsmethode?
A: Over het algemeen sturen we vracht door UPS, DHL of FedEx. Ook kunnen we over zee naar zeehaven of door de lucht naar de dichtstbijzijnde luchthaven sturen.

Foto van tial sputtering doelwit

Populaire tags: Tial sputterend doelwit, China tial sputtering doelleveranciers, fabriek