Producten Beschrijving
Sputteren is een nieuw type Physical Vapour Deposition (PVD)-methode. Sputteren wordt veel gebruikt in: platte beeldschermen, de glasindustrie (inclusief architectonisch glas, autoglas, optisch filmglas), zonnecellen, oppervlaktetechniek, opnamemedia, micro-elektronica, autoverlichting en decoratieve coating, enz.
Soort en maat
|
productnaam |
Wolfraam(W-1) sputterdoel |
|
Beschikbare zuiverheid (%) |
99.95% |
|
Vorm: |
Plaat, rond, roterend |
|
Maat |
OEM-formaat |
|
Smeltpunt(rang ) |
3407 (graad) |
|
Atomair volume |
9,53 cm³/mol |
|
Dichtheid (g/cm³) |
19,35 g/cm³ |
|
Temperatuurcoëfficiënt van weerstand |
0.00482 I/ graad |
|
Sublimatie warmte |
847,8 kJ/mol (25 graden) |
|
Latente smeltwarmte |
40,13 ± 6,67 kJ/mol |
|
oppervlakte staat |
Polijsten of alkalisch wassen |
|
Sollicitatie: |
Lucht- en ruimtevaart, smelten van zeldzame aardmetalen, elektrische lichtbron, chemische apparatuur, medische apparatuur, metallurgische machines, smeltapparatuur, aardolie, enz. |
Functies
(1) Glad oppervlak zonder poriën, krassen en andere onvolkomenheden
(2) Slijp- of draairand, geen snijsporen
(3) Onverslaanbaar niveau van materiële zuiverheid
(4) Hoge ductiliteit
(5) Homogene microstructuur
(6) Lasermarkering voor uw speciale artikel met naam, merk, zuiverheidsgrootte enzovoort
(7) Alle stuks sputterdoelen van het item en nummer van de poedermaterialen, de mengarbeiders, de uitgas- en HIP-tijd, de machinale bewerkingspersoon en de verpakkingsdetails worden allemaal door onszelf gemaakt.
Toepassingen
1. Een belangrijke manier om dunnefilmmateriaal te maken is sputteren: een nieuwe manier van fysieke dampdepositie (PVD). De dunne film gemaakt door target wordt gekenmerkt door een hoge dichtheid en goede hechting. Omdat de magnetronsputtertechnieken op grote schaal worden toegepast, is er grote behoefte aan trefplaten met een hoog zuiver metaal- en legeringsgehalte. Omdat ze een hoog smeltpunt, elasticiteit, lage thermische uitzettingscoëfficiënt, weerstandsvermogen en fijne hittestabiliteit hebben, worden doelen van zuiver wolfraam en wolfraamlegeringen veel gebruikt in geïntegreerde halfgeleidercircuits, tweedimensionale weergave, fotovoltaïsche zonne-energie, röntgenbuizen en oppervlaktetechniek.
2. Het kan werken met zowel oudere sputterapparaten als met de nieuwste procesapparatuur, zoals coating voor grote oppervlakken voor zonne-energie of brandstofcellen en flip-chip-toepassingen.
Populaire tags: hoge zuiverheid 99,95% wolfraam sputterdoel, China hoge zuiverheid 99,95% wolfraam sputterdoel leveranciers, fabriek
